글로벌 극자외선(EUV) 리소그래피 시장 규모는 2033년까지 448억 5  천만 달러 규모로 전망

Spherical Insights & Consulting에서 발표한 연구 보고서에 따르면 글로벌 극자외선(EUV) 리소그래피 시장 규모는 2023년 92억 5천만 달러에서 2033년 448억 5천만 달러로 성장할 것으로 예상되며, 2023-2033년 예측 기간 동안 17.10%의 CAGR로 성장할 것으로 예상됩니다.  

글로벌 극자외선(EUV) 리소그래피 시장 규모, 점유율 및 COVID-19 영향 분석, 장비별(광원, 광학, 마스크 및 기타), 최종 용도별(통합 장치 제조업체(IDM) 및 파운드리)에 대한 보고서에서 110개의 시장 데이터 표와 그림 및 차트가 포함된 210페이지에 걸쳐 있는 주요 산업 통찰력을 찾아보십시오., 지역별(북미, 유럽, 아시아 태평양, 라틴 아메리카, 중동 및 아프리카), 분석 및 예측 2023 – 2033.          

극자외선(EUV) 리소그래피는 반도체 산업에서 집적 회로(IC)를 제조하는 데 사용되는 기술입니다. 현대 컴퓨터 칩을 제조하는 첨단 기술입니다. 이러한 종류의 포토리소그래피는 레이저 펄스 주석(Sn) 플라즈마에서 나오는 13.5nm 극자외선(EUV)을 사용하여 반도체 기판에 복잡한 패턴을 생성합니다. Gen AI와 EUV 리소그래피의 결합은 반도체 제조 공정의 정밀도, 효율성 및 혁신에 영향을 미치고 있습니다. 인공 지능(AI)은 결과를 예측하고 비효율성을 식별함으로써 정교한 모델링과 시뮬레이션을 제공하여 프로세스 워크플로우를 개선합니다. 더 높은 해상도, 큰 크기 및 고품질 이미지에 대한 고객의 요구를 충족하기 위해 고급 디스플레이 제조에 극자외선 리소그래피를 통합하는 것은 수익성 있는 시장 성장 기회를 제공하고 있습니다. 첨단 반도체 노드에 EUV 리소그래피를 채택하는 것은 시장 성장을 크게 주도하고 있습니다. 효율적이고 더 작고 더 빠른 칩을 생산하기 위한 첨단 제조 기술에 대한 수요 증가로 인한 반도체 제조 시설(팹)의 확장이 시장에 활력을 불어넣고 있습니다. 반대로, 첨단 인프라와 숙련된 인력에 대한 요구는 극자외선(EUV) 리소그래피 시장에 도전 과제가 되고 있습니다.

광원 부문은 2023년 극자외선(EUV) 리소그래피 시장에서 가장 큰 매출 점유율을 차지했습니다.

장비를 기준으로 글로벌 극자외선(EUV) 리소그래피 시장은 광원, 광학, 마스크 등으로 나뉩니다. 이 중 광원 부문은 2023년 극자외선(EUV) 리소그래피 시장에서 가장 큰 수익 점유율을 차지했습니다. 13.5nm의 극자외선(EUV)을 방출하는 레이저 펄스 주석 플라즈마는 EUV 리소그래피의 광원 역할을 합니다. 더 작고 효율적인 칩을 생산하려는 반도체의 추진은 광원 부문에서 시장을 주도하고 있습니다.

통합 장치 제조업체(IDM) 부문은 2023년에 가장 큰 시장 점유율로 시장을 지배했습니다.

최종 용도를 기준으로 글로벌 극자외선(EUV) 리소그래피 시장은 통합 소자 제조업체(IDM)와 파운드리로 나뉩니다. 이 중 IDM(Integrated Device Manufacturer) 부문은 2023년 가장 큰 시장 점유율로 시장을 지배했습니다. 칩 성능, 전력 및 면적(PPA)의 한계를 뛰어넘기 위해 반도체 제품을 설계, 제조 및 판매하는 IDM 회사는 EUV 리소그래피를 점점 더 많이 사용하고 있습니다.

북미는 예측 기간 동안 전 세계 극자외선(EUV) 리소그래피 시장에서 가장 큰 점유율을 차지할 것으로 예상됩니다.

북미 는 예측 기간 동안 전 세계 극자외선(EUV) 리소그래피 시장에서 가장 큰 점유율을 차지할 것으로 예상됩니다. 스마트폰, 노트북 등을 포함한 기술적으로 발전된 제품에 대한 수요 증가가 시장을 주도하고 있습니다. 또한 컴퓨팅, 통신 및 소비자 전자 제품과 같은 다양한 산업에서 더 작고 더 강력한 반도체 장치에 대한 수요 증가는 시장 성장을 촉진하고 있습니다.

아시아 태평양은 예측 기간 동안 극자외선(EUV) 리소그래피 시장에서 가장 빠른 CAGR로 성장할 것으로 예상됩니다. 증가하는 반도체 제조와 이 지역의 주요 시장 플레이어의 존재는 시장을 추진하는 책임이 있습니다. 웨이퍼 처리 능력의 증가와 이 지역의 주요 파운드리에서 팹리스 업체의 상당한 수요가 지역 시장 성장을 주도하고 있습니다.

극자외선(EUV) 리소그래피 시장의 주요 업체로는 ASML Holding NV, NTT Advanced Technology Corporation, Canon Inc., Nikon Corporation, Intel Corporation, Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited, Samsung Electronics Co. Ltd., Toppan Photomasks Inc., ZEISS Group, Ushio, Inc. 등이 있습니다.

주요 타겟 고객

• 마켓 플레이어
• 투자자
• 최종 사용자
• 정부 당국
• 컨설팅 및 리서치 펌
• 벤처 캐피털리스트
• 부가가치 리셀러(VAR)

최근의 발전 상황

• 2024년 2월, 칩 공구 제조 대기업 ASML(ASML.AS)은 새로운 탭을 열고 1,250억 달러 시장에서 선두를 유지하기 위한 입찰의 중심인 2층 버스 크기의 장치인 3억 5천만 달러의 새로운 "High NA EUV" 기계의 생산을 준비하고 있다고 밝혔습니다.
• 2024년 1월, 전 세계적으로 유일무이한 높은 NA-EUV 리소그래피는 최첨단 마이크로칩 생산의 새로운 기준을 제시합니다. ZEISS는 이 새로운 기술의 핵심인 광학 시스템을 개발 및 제조했습니다. 높은 NA-EUV 리소그래피를 위한 첫 번째 기계는 최근 전략적 ZEISS 파트너인 ASML에 의해 납품되었습니다.

시장 세그먼트

이 연구는 2023년부터 2033년까지 글로벌, 지역 및 국가 수준에서 수익을 예측합니다. Spherical Insights는 아래에 언급된 세그먼트를 기반으로 글로벌 극자외선(EUV) 리소그래피 시장을 분류했습니다.

글로벌 극자외선(EUV) 리소그래피 시장, 장비  별

• 조명 공급원
• 광학
• 마스크
• 다른

글로벌 극자외선(EUV) 리소그래피 시장, 최종 용도  별

• 통합 장치 제조업체(IDM)
• 파운드리

글로벌 극자외선(EUV) 리소그래피 시장, 지역 분석

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